Von der ersten Planung bis zur finalen Implementierung: ELEMENT 3—5 ist auf allen Ebenen der Enabler eines weitreichenden Umbruchs im Halbleitermarkt. Unser Know-how stecken wir nicht nur in die Herstellung unserer Anlagen, sondern vor allem auch in die umfassenden Serviceleistungen für unsere Kund_innen.
Unsere Epitaxieexpert_innen bringen tiefgreifendes Know-how entlang der bestehenden Prozesskette für Wide-Bandgap-Halbleiter mit. Mit einer klaren Vision für die Zukunft analysieren sie bestehende Abläufe und erstellen eine Technology-Roadmap – mit präzisen Vorgaben hinsichtlich Qualität, Kapazität, Ertrag und Wirtschaftlichkeit.
Gemeinsam mit unseren Kund_innen stellen wir den gemeinsamen Fahrplan auf den Prüfstand. Die erste Beschichtung des Substrats führen wir mit In-House-Equipment durch. Nach erfolgreicher Charakterisierung setzen wir den Prozess vor Ort fort, unterstützen das Finetuning der Prozesse und die Gestaltung aller nötigen Abläufe.
Wir liefern nicht nur die Anlagen und das Design der Prozessketten. Wir stehen auch während der Implementierung mit unserem Know-how zur Seite. Auch mit effizientem Monitoring aller Charakteristika und Spezifikationen.
Der neue ACCELERATOR 3500K ist das erste hochmoderne Hochleistungs-Produktionssystem für monokristalline Templates. Solche Templates sind eine Schlüsseltechnologie für die effiziente Massenproduktion von Produkten auf Basis von Wide-Bandgap-Halbleitern. LEDs, miniLEDs und microLEDs für Displays und HEMTs und viele andere Anwendungen profitieren daher von den vielfältigen Vorteilen des neuen ACCELERATOR 3500K.
Der ENABLER 150K ist ein revolutionäres System für die Herstellung von monokristallinen akustischen Volumenwellenfiltern. Für moderne und zukünftige Generationen der mobilen Kommunikation reichen polykristalline Materialien nicht mehr aus, um höhere Frequenzen zu ermöglichen. Der neue Epitaxie-Ansatz von ELEMENT 3—5 ermöglicht eine wesentlich effizientere Produktion von zukünftigen Filterelementen für die Telekommunikation mit zahlreichen Vorteilen.
Unsere einzigartige lineare Ionenquelle bietet eine hervorragende Gleichmäßigkeit, die für die Oberflächenvorbehandlung oder Dünnfilmbeschichtung geeignet ist. Die lineare Ionenquelle kann an jede beliebige Dimension angepasst werden, die eine Steigerung der Produktivität ermöglicht.
Unsere hocheffizienten Plasmaquellen werden in PECVD- oder RIE-Prozessen auf flachen Substraten bis 300 mm sowie zur Erzeugung von Volumenplasma für Ätz-, Reinigungs- und Aktivierungsprozesse in großen Anwendungen eingesetzt. Aufgrund der einzigartigen induktiven Kopplung der HF-Leistung bieten unsere Quellen hohe Prozessraten, eine Vielzahl von Arbeitsgasen bei geringster thermischer Belastung des Substrats.
Dann lassen Sie es uns wissen. Wir sind immer auf der Suche nach neuen Perspektiven und Herausforderungen.
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