Eine Halbleiter-Revolution.
Nicht mehr — nicht weniger.
Next Level Epitaxy nach Maß
Niedrigere Abscheidungstemperaturen, geringerer Energie- und Prozessgasverbrauch, schnellere Produktion und Kombination neuer Materialien für Halbleiter mit großem Bandabstand. ELEMENT 3—5 hebt die Epitaxie auf die nächste Stufe.
ACCELERATOR 3500K
Maximale Effizienz
Klares Design in Kombination mit unserem neuartigen Inline-Fertigungskonzept ist die Basis für skalierbare Produktionsmengen und deutlich gesteigerte Effizienz.
neue Möglichkeiten
Vertikale Produktion
ELEMENT 3—5 setzt neue Standards bei Format und Form der Halbleiter. Dafür stellen wir den Wafer vertikal auf und erreichen so größtmögliche Homogenität und eine partikelfreie Herstellung.
Allerhöchste Qualität
Unsere einzigartige Prozessmethode ermöglicht die Abscheidung monokristalliner Strukturen von höchster Qualität bei Temperaturen unter 300 °C. Damit ist die Produktion wesentlich umweltfreundlicher, energiesparender und auch kosteneffizienter als die herkömmlichen Verfahrenstechniken.
mehr Alternativen
Neue Potenziale heben
Wir eröffnen der Halbleiterindustrie völlig neue Chancen. Bei unter 300 °C können auch temperatursensitive Substrate verarbeitet und Materialien jenseits der 3. und 5. Hauptgruppe abgeschieden und kombiniert werden.
Grüner & sauberer
ELEMENT 3—5 verwendet intelligentes Plasma und macht den Einsatz toxischer Gase in der Halbleiterproduktion obsolet. Betrieb und Wartung werden deutlich einfacher und gemeinsam mit bis zu 90 Prozent Energieersparnis in der Fertigung verringern wir den Umwelt-Impact deutlich.
Über Element 3—5
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